В Китае достигнут значительный прогресс в исследованиях и производстве фоторезиста
Компания Hubei Dinglong Holding Co., Ltd., китайский производитель полупроводниковых материалов, объявила в декабре, что её иммерсионный фоторезист ArF и фоторезист KrF успешно прошли проверку клиентов и недавно получили заказы от двух ведущих отечественных производителей пластин на общую сумму более одного миллиона юаней.
Компания Hubei Dinglong адаптировала структуру мономеров, смол и рецептуры для соответствия техническим требованиям фоторезистов KrF и ArF. Усовершенствуя такие процессы, как очистка, фильтрация и смешивание, компания разработала специальные смолы и высокочистые мономеры, генераторы фотокислот и другие ключевые материалы, обеспечив полностью локализованный производственный процесс от критически важных материалов до фоторезистов.
5 декабря компания Shenzhen Rongda Photosensitive Science & Technology Co., Ltd. (компания Rongda) привлекла размещением акций 244 миллионов юаней для финансирования проектов по созданию высококачественных фоточувствительных сухих плёночных фоторезистов, фоторезистов для паяльных масок на подложках интегральных схем и полупроводниковых фоторезистов, а также для пополнения оборотного капитала.
Компания Rongda подчеркнула, что её продукция из сухой плёнки в основном используется в производстве печатных плат и полупроводников. В связи с быстрым ростом этих отраслей рынок светочувствительной сухой плёнки также расширился. С начала XXI века мировые производственные мощности по выпуску печатных плат, дисплеев и полупроводников постепенно переместились в Азию, в частности в Китай, что привело к быстрому росту внутреннего спроса на цепочки поставок.
Полупроводниковые фоторезисты в основном используются при производстве дискретных устройств, светодиодов и интегральных схем. Они повышают разрешение за счёт сокращения длины волны экспонирования, что позволяет интегрировать микросхемы с более высокой плотностью. В зависимости от длины волны экспонирования полупроводниковые фоторезисты делятся на широкополосные УФ-фоторезисты (300–450 нм), фоторезисты g-линии (436 нм), i-линии (365 нм), KrF (248 нм), ArF (193 нм), EUV (13,5 нм) и электронно-лучевые фоторезисты.
Мировой рынок фоторезистов отличается высокой концентрацией, при этом основные технологии в основном принадлежат международным компаниям в Японии и США. По мнению TrendForce, такие компании, как JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, Fujifilm и DuPont, доминируют на большей части мирового рынка фоторезистов для полупроводников, особенно в сфере высокотехнологичных технологий.
Китайские компании, такие как Shanghai Sinyang, Rachem, Bcpharma и Crystal Clear Electronic Material, добились определённых успехов в производстве фоторезистов низкого ценового сегмента. Однако доля фоторезистов высокого ценового сегмента на внутреннем рынке остаётся низкой из-за высоких технических барьеров и позднего начала развития отрасли. По данным отрасли, доля фоторезистов для полупроводников на внутреннем рынке составляет примерно 20% для g-линии, 20% для i-линии, менее 5% для KrF и менее 1% для ArF.
Тем не менее, растущий спрос на искусственный интеллект и высокопроизводительные вычисления в сочетании с частичным восстановлением рынков смартфонов, ПК и автомобилей способствует развитию полупроводниковой промышленности. Следовательно, ожидается, что рынок полупроводникового фоторезиста будет расти.
Китайское правительство активно поддерживает развитие полупроводниковой промышленности и производства сырья, внедряя политику, направленную на поддержку сектора фоторезиста. Эти усилия направлены на ускорение научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ и производства, что позволяет заменить импортные технологии отечественными.
Сообщение В Китае достигнут значительный прогресс в исследованиях и производстве фоторезиста появились сначала на Время электроники.