Власти: Россия готова выпускать современные литографы для топологии 350 нм и 130 нм
Производство российского оборудования для выпуска чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм — в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучил замглавы Минпромторга Василий Шпак. На сегодняшний день такую литографию выпускают только две компании в мире — голландская ASML и японская Nikon.