В России началась разработка 11,2-нм системы EUV-литографии 0 22.12.2024 07:35 Overclockers.ru Россия разрабатывает собственную технологию EUV-литографии с длиной волны 11,2 нм, что отличается от установленного стандарта компании ASML в 13,5 нм Москва на Moscow.media Частные объявления сегодня Rss.plus Все новости за 24 часа
