ТГУ разработал 2 технологии, необходимые для развития микроэлектроники
Со ссылкой на руководителя проекта, директора Инжинирингового центра высокочистых веществ и материалов микроэлектроники ТГУ, профессора химического факультета ТГУ Виктора Сачкова поясняется, что бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основой для интегральных микросхем.
"Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями, но после введения санкций поставки были прекращены. За 2023-2024 год химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства", – приводятся в релизе слова ученого.
Уточняется, что в конце 2024 года технологию внедрили в производство – первые партии продукта прошли промышленные испытания на предприятиях, которые занимаются выпуском компонентов для микроэлектронных устройств и систем.
Еще одна технология
Также химики ТГУ разработали технологию, предназначенную для синтеза соединения тетракис(диметиламино)титана, широко известного как TDMAT. TDMAT необходим при производстве полупроводников, изотопов, также в нем заинтересованы отрасли оптики, конструкционных покрытий и композиционных материалов. В настоящее время первые партии TDMAT уже отправлены российским предприятиям.
"В современном мире микроэлектроника – это не просто отрасль промышленности, а фундамент, без которого невозможен технологический прогресс. Внедрение технологий выпуска бромистого водорода и TDMAT электронного качества будет напрямую способствовать появлению качественной российской электроники и ее импортонезависимости", – цитируется Сачков