NVIDIA, Synopsys, TSMC: cuLitho ускоряет разработку масок в полупроводниковом производстве

В прошлом году NVIDIA представила cuLitho, платформу для вычислительной литографии, призванную заменить кластеры CPU, ранее использовавшиеся в этой области, на GPU. В прошлом году анонс больше походил на декларацию о намерениях , но с интеграцией технологии в Synopsys Proteus, программное обеспечение для генерации масок экспонирования, проект станет реальностью и будет использоваться при производстве следующего поколения чипов.

Разработчики и производители чипов уже уделяют особое внимание поддержке искусственного интеллекта при разработке и компоновке кристаллов. По словам представителей компаний, использование ИИ при производстве масок позволяет создать практически идеальную инверсную маску или инверсное решение с учетом дифракции света. Затем обычными методами создается финальная маска, в итоге весь процесс оптической коррекции близости (Optical Proximity Correction, OPC) ускоряется в два раза.

TSMC и Synopsys будут сотрудничать на базе программного обеспечения генерации масок Proteus, что позволит ускорить их производство.

{nozuna nzimagefromgallery}73795395-e582-11ee-88a5-000c29322405 0{/nozuna nzimagefromgallery}

Будет использоваться и оборудование ...